超声波换能器制作：压电薄膜制作——射频溅射
根据所使用的电源不同，溅射装置可分为直流溅射和射频溅射。直流电源不能对绝缘靶进行溅射，这是因为撞击到靶上的离子会使靶带电，电位上升，导致离子不能继续对靶进行轰击。射频电源能对包括绝缘体在内的一切靶材进行溅射。射频电源向靶材施加的是交流电压，在电压的正半周期，由于绝缘体的极化作用，靶材迅速吸引表面附近的等离子体中的电子，使表面与等离子体的电位相同，可以看作电容器的充电过程。
在电压的负半周期，绝缘体靶表面实际的电位最低点近似等于靶上所加负电压的两倍，此时离子射向绝缘体靶的表面发生溅散现象。由于离子比电子质量大、迁移率小，不像电子那样很快地向靶表面集中，所以靶表面的电位上升缓慢，即已充电的电容器的放电过程缓慢。下一个周期又重复上述过程，其结果相当于在绝缘体施加了一个等效偏压，从而对绝缘体靶材进行溅射。如果在绝缘体靶和基片之间所施加的是正弦波，则偏压也是正弦波。上述过程也可以看作是射频电流通过绝缘体靶和基片两极间的电容而流动。
